制氮裝置等氮氣純化設(shè)備

制氮裝置是制取氮氣的設(shè)備，在需求高純度氮氣的情況下需要安裝純化設(shè)備才能得到需要的高純度氮氣。氮氣純化裝置是我公司研發(fā)生產(chǎn)的高端氣體純化設(shè)備，用于工業(yè)上氮氣除雜，主要除去的是氮氣中的氧氣，以提高氮氣的純度。氮氣純化裝置廣泛應(yīng)用于半導體制造、醫(yī)藥、化工、冶金、電力部門等領(lǐng)域。

氮氣純化設(shè)備是以變壓吸附制得的粗氮為原料，經(jīng)加氫催化除氧，冷凝水吸附兩級干燥除塵，去除氮氣中的氧、水汽和塵埃等雜質(zhì)，從而獲得高純度的氮氣。其人口的粗氮純度要求≥98%，出口精氮的純度≥99.999%，氧含量≤3μm，露點≤-65℃。

第1步是除氧。粗氮與添加的氫氣相混合后進人除氧器，在催化劑的作用下，使粗氮中的雜質(zhì)氧與氫反應(yīng)生成水汽，除氧器溫度控制在80～100℃，這樣可使反應(yīng)生成的水汽全部被氣流帶走，從而保證催化劑不致受到水汽影響而中毒，可無需再生處理長期使用。

第2步是冷凝除塵，氮氣和水汽先經(jīng)過水冷卻器冷卻到常溫，然后進入冷凍式干燥器進一步冷卻到露點以下，再進入汽水分離器，除去氣體中冷凝下來的冷凝水。

第3步是深度干燥。經(jīng)冷凝除濕后的氮氣的露點仍然不能滿足需要，必須繼續(xù)進入分子篩吸附干燥器深度干燥，除去微量的水分，使露點進一步降低到設(shè)計的要求。

第4步是過濾除塵。干燥吸附后的氮氣再經(jīng)過氣體過濾器，除去分子篩粉末等雜質(zhì)，便得到高純度、潔凈的精氮，直接輸送到爐區(qū)作安全氣、密封氣，或與氫氣混合后作為保護還原氣體。

瑞氣氮氣純化裝置

NCHa型氣體純化裝置

簡潔、高效的氮氣提純方式，本技術(shù)適用于簡單分子氮、氫、氧、一氧化碳、二氧化碳氣體和惰性氣體氬、氦、氪、氙、氖氣，以及低碳直鏈飽和碳氫化合物甲烷、乙烷、丙烷、丁烷等等氣體，加氫脫除氧雜質(zhì)或者加氧脫除氫雜質(zhì)，獲取高純氣體。
NCHa型氣體純化裝置系采用催化反應(yīng)技術(shù)，利用在催化劑參與下，促進氣體中的氧氣雜質(zhì)與加入的氫氣發(fā)生化學反應(yīng)而生成水，實現(xiàn)脫除氧雜質(zhì)的目的。

JNCH型節(jié)能型氣體純化裝置

高效節(jié)能的氣體純化工藝，尤其適合于制取超高純度的“黃金氣體”氪、氙、氖氣的純化處理過程。
該裝置采用具有高效加氫脫氧化性能的JHDO型催化劑和具有既能脫氧又能脫氫的雙功能SODH型吸氧脫氫劑，在配置高精度自動加氫系統(tǒng)控制下，實現(xiàn)既脫除氣體中的氧雜質(zhì)也徹底消除加入的殘留氫氣，從而獲得氧、氫雜質(zhì)含量均＜1ppm的高純氣體。
此氣體純化裝置同樣適用于NCHa型裝置的氣體種類范圍使用。
由于該節(jié)能型純化裝置生產(chǎn)工藝流程中所使用的催化劑都不需要再生處理操作，從而既避免了寶貴產(chǎn)品再生氣的排放，又節(jié)省大量再生加熱能耗，可以降低運行成本達30%以上，因此，此裝置尤其是適合于制取超高純度的“黃金氣體”氪、氙、氖氣的純化處理過程。

NCHc型氣體純化裝置

較高純度氮氣再提純，適用于較高純度原料氣或小氣量規(guī)模氮氣純化裝置。
裝置采用化學吸收脫氧技術(shù)脫除氣體中的氧雜質(zhì)，獲取高純氣體。
它適用于原料氣體純度≥99.9%的氣體。通常為深冷空分氧氣站產(chǎn)出的污氮氣體進行進一步脫氧處理，獲取高純（99.9995%～99.9999%N2）氮氣，或者深冷空分制氮設(shè)備經(jīng)多年使用后，產(chǎn)出氮氣純度下降，需要進一步脫氧純化處理，獲取高純氮氣。
由于本純化裝置采用新穎的并聯(lián)再生——串聯(lián)工作獨特工藝過程，解決了由于催化劑具有的“溶氫”特性而造成氫氣污染氣體產(chǎn)品的難題，實現(xiàn)高純氣體產(chǎn)品中含氧、氫雜質(zhì)量均小于1ppm的指標，同時達到既節(jié)能又降低純化運行成本，同樣本裝置也適用于NCHa型氣體純化裝置的氣體種類范圍。

NCRs(NCRd)氣體純化裝置

提純無需備氫源，專門為無氫氣或不使用氫氣的生產(chǎn)工藝而設(shè)計的氣體純化設(shè)備
本氣體純化裝置是專門為無氫氣或不能使用氫氣的用戶設(shè)計的氣體純化裝置，它采用燃燒法脫氧，讓氣體中的氧雜質(zhì)與3093脫氧劑在350℃下發(fā)生燃燒（氧化）反應(yīng)，生成二氧化碳，從而除去氧雜質(zhì)。
通常適用于含有雜質(zhì)氧氣≤0.1%的氮、二氧化碳等氣體進行脫氧處理，可以獲得高純氣體產(chǎn)品。

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